本實驗室設於機械大樓B109室，光學量測儀器設備有鎖相放大器、電光晶體調制器、光學桌、光學零件及He-Ne雷射等，主要從事光學量測與外差干涉等相關研究。而雷射干涉術已經發展成為一項重要的量測工具，舉凡長度、微小位移的測量、折射率、表面粗糙度、物體定位與其他精密工程，都廣泛地使用雷射干涉術。在各 種干涉術中，應屬外差干涉術最為重要，因為它具有快速反應、排除雜訊與克服訊號飄移的能力。一般而言外差干涉術是指將兩個具有不同頻率的波前互相干涉的技術，將待測的參數引進光的相位之中，再利用鎖相技術將相位解析出來。因此組裝一外差干涉儀必需要有：

1. 外差光源

2. 待測系統

3. 相位解析系統

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